全像設計

公司介紹

2013.03.14

鎳鈷銅複合材料開發

2013.06.15

引進精密放電加工設備

2013.11.01

開發4~8吋晶圓電鑄複製

可降低電鑄誤差達0.01mm

2013.12.01

目前可客制鎳鈷合金微噴孔片，孔徑最小可達3um

2014.06.01

超微孔模具加工

2015 05.01

目前本公司可製作85吋之電鑄模仁供應面板及背光模組廠使用

2016 03.16

引進專業濺鍍設備，可提供電鑄前加工，以及功能性濺鍍加工

2021

導入黃光製程，整合提升生產線的完整性

安全檢查表連結

全像設計

全像術（holography）的原理簡單來說，就是利用某一波長的雷射光束，透過光線分離裝置分為兩束光，一束照射到被攝物體後，經物體表面反射到達底片上，另一束照射到面鏡後入射至底片上，由於這兩道光具有同光源、高同頻性、高同調性且傳播極為準直等特性，在兩束光交會後產生干涉條紋並記錄在高感光度的底片上，即完成了全像術記錄，而經曝光沖洗後的底片就稱為全像片。全像片可儲存物體三維資訊，有大的景深，賦予視覺上的立體感。